Makers & Products
連続水素化フロー装置（充填層・その場H2発生） のメーカー・製品一覧
連続水素化フロー装置
その場H2発生・統合型（4）
ThalesNanoH-Cube Mini Plus水の電気分解でH2をその場発生し、CatCart充填層を通して連続水素化を行うエントリー機。常温〜100℃・最大100barで安全に運転。公式情報 ThalesNanoH-Cube Pro30/70mmのCatCart充填層に対応し10℃冷却・150℃加熱まで拡張した上位フロー水素化装置。H2はオンデマンド発生または外部供給。公式情報 ThalesNanoH-Cube Advance0〜150℃・最大100bar、H2に加え14種のガスを扱えるタッチパネル制御の高機能フロー水素化機。リアルタイムデータ記録対応。公式情報 ThalesNanoH-Cube Pro Hastelloy酸・塩素系など腐食性物質に対応するHastelloy C流路のH-Cube Pro。その場H2発生＋封止CatCartで安全に連続水素化。公式情報
高温高圧・スケールアップ（4）
ThalesNanoPhoenix – H-Genie PlatformPhoenixフロー反応器（最大450℃・200bar）とH-Genieのその場H2発生を統合。プレフィルCatCart充填層で不均一系水素化を高温高圧で実行。公式情報 HEL GroupFlowCATHastelloy/SS製の固定層チューブ反応器を備えたベンチトップ連続フロー接触装置。水素化・酸化・カルボニル化等に対応し温度・圧力・ガス流量を精密制御。公式情報 Parr Instrument5400 Continuous Flow Tubular Reactors触媒を充填して不均一系反応に使えるチューブ（固定層）型連続反応装置。卓上からパイロットまで、水素化・水素化分解等に対応。公式情報 Amar EquipmentFixed & Fluidized Bed Reactors10mL〜100Lの固定層・トリクルベッド連続フロー反応装置。最大350bar対応で触媒スクリーニング・水素化・Fischer-Tropschに使用。公式情報
フロー化学プラットフォーム＋充填層（4）
VapourtecGas/Liquid Reactor標準ガラスマニホールドに装着するガス/液反応器。高濃度（1M）でのフロー水素化を可能にし、R/E-Seriesと組合せ接触水素化に利用。公式情報 SyrrisAsia Column Reactor固体触媒を充填して使うAsiaシステム用カラム反応器。4径×100mmで、ガス添加と組合せ不均一系のフロー水素化に対応。公式情報 UniqsisFlowSyn + Gas Addition Module充填カラムを備えた一体型フロー反応装置。Gas Addition Moduleで液にH2を予飽和させ、水素化・オゾン分解等のガス依存反応を効率化。公式情報 YMCKeyChem-Integral触媒カラムユニットを備える不均一系フロー反応装置。気液・固液・固液気反応に対応し、最大35MPa・200℃で接触水素化に使用可能。公式情報