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連続水素化フロー装置（充填層・その場H2発生） のメーカー・製品一覧
連続水素化フロー装置
連続水素化フロー装置は、充填層触媒に基質溶液とH2を通液し、接触水素化を連続的に行う反応機です。多くは水の電気分解でH2をその場発生させ、高圧ボンベを使わず安全に運転できる点が特長です。原薬合成の還元工程に用いられ、対応する温度・圧力範囲と扱えるガス種の広さが装置選定の目安になります。
選び方
まず規模で絞る——少量の探索・合成なら水素ガスをその場で作る統合機、量産・パイロットなら高温高圧に耐える固定層反応器。既にフロー合成機を持つなら充填層を足す拡張型が早い。あとは温度・圧力の範囲と、扱う物質の腐食性で材質（ステンレス/Hastelloy）を確認する。
- 処理規模（探索/量産）
- 最高温度・圧力
- H2供給方式
- 流路材質の耐食性
- 既存フロー機との接続
代表的な製品迷ったらここから
ThalesNanoH-Cube Mini Plus水からH2をその場発生しボンベ不要。少量の検討を安全に始める入口機。水の電気分解でH2をその場発生し、CatCart充填層を通して連続水素化を行うエントリー機。常温〜100℃・最大100barで安全に運転。公式情報 →
ThalesNanoPhoenix – H-Genie Platform最大450℃・200barで難反応も。検討から量産へ条件を引き上げたい時。Phoenixフロー反応器（最大450℃・200bar）とH-Genieのその場H2発生を統合。プレフィルCatCart充填層で不均一系水素化を高温高圧で実行。公式情報 →
HEL GroupFlowCAT固定層チューブ＋精密制御で水素化以外も。本格スケールアップの定番。Hastelloy/SS製の固定層チューブ反応器を備えたベンチトップ連続フロー接触装置。水素化・酸化・カルボニル化等に対応し温度・圧力・ガス流量を精密制御。公式情報 →
VapourtecGas/Liquid Reactor既存R/E-Seriesに装着し高濃度(1M)で水素化。手持ち機を活かしたい時。標準ガラスマニホールドに装着するガス/液反応器。高濃度（1M）でのフロー水素化を可能にし、R/E-Seriesと組合せ接触水素化に利用。公式情報 →
その場H2発生・統合型（4）
ボンベ不要で安全に。少量の探索・ルート検討を手早く回したい時。
ThalesNanoH-Cube Pro Hastelloy酸・塩素系など腐食性物質に対応するHastelloy C流路のH-Cube Pro。その場H2発生＋封止CatCartで安全に連続水素化。公式情報
高温高圧・スケールアップ（4）
高温高圧の難反応や、パイロット〜量産へ規模を上げたい時。
ThalesNanoPhoenix – H-Genie PlatformPhoenixフロー反応器（最大450℃・200bar）とH-Genieのその場H2発生を統合。プレフィルCatCart充填層で不均一系水素化を高温高圧で実行。公式情報
Parr Instrument5400 Continuous Flow Tubular Reactors触媒を充填して不均一系反応に使えるチューブ（固定層）型連続反応装置。卓上からパイロットまで、水素化・水素化分解等に対応。公式情報
Amar EquipmentFixed & Fluidized Bed Reactors10mL〜100Lの固定層・トリクルベッド連続フロー反応装置。最大350bar対応で触媒スクリーニング・水素化・Fischer-Tropschに使用。公式情報
フロー化学プラットフォーム＋充填層（4）
既にフロー合成機があり、充填層を足して水素化に拡張したい時。
Uniqsis （Asynt）FlowSyn + Gas Addition Module充填カラムを備えた一体型フロー反応装置。Gas Addition Moduleで液にH2を予飽和させ、水素化・オゾン分解等のガス依存反応を効率化。公式情報
H2発生器・触媒カートリッジ（1）
既存装置へH2供給源や触媒充填層を後付けで補いたい時。