HEK293一過性発現・AAV製造用培地

このカテゴリが他モダリティと根本的に異なるのは、培地が「安定セルラインを長期に養う」のではなく「一過性トランスフェクションでウイルスベクターを一気に作らせる」ために設計されている点である。CHOで抗体を流加培養する場合は比増殖速度・積分生細胞数・力価の持続が主眼になるが、HEK293の一過性発現では、トランスフェクション時の細胞状態（密度・生存率・代謝）とDNA/トランスフェクション試薬複合体の取り込み効率が成否を決める。培地はこのトランスフェクション工程と一体で評価しなければならず、増殖性能が良くてもトランスフェクション効率や最終ベクター力価が出なければ採用できない。

選定軸は、対象トランスフェクション試薬（PEI系・脂質系）との相性、トランスフェクション時に推奨される細胞密度域での生存率・凝集挙動、そして力価（AAVならvg/mL、レンチならTU/mL）である。多くの製品が基礎培地に加えてトランスフェクション増強剤やフィード（ブースター）をセットで提供し、トランスフェクション後の細胞をベクター産生に振り向ける設計になっている。化学規定（chemically defined）・非動物由来であること、AAV/レンチ/アデノなど産生するベクター種で挙動が変わる点も実務上の確認事項になる。

注意点として、同じHEK293でもHEK293T・293F・Expi293など由来株により至適培地が異なり、培地は株とセットで最適化されている点が挙げられる。安定プールでのVLP産生や接着系からの浮遊馴化用途も近接するが、本ページの主眼はあくまで一過性トランスフェクションによるウイルスベクター製造である。スケールアップ時は浮遊・無血清でのバイオリアクター運用、トランスフェクションタイミングとフィード添加の作業ウィンドウを工程設計に織り込む。